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摘要:氮化镓基微盘结构光学谐振腔具有波长选择范围宽、模式体积小和激射阈值低等特点,其在腔量子电动力学、低阈值激光器、生物传感器等方面具有重要的研究价值。通过优化制备微盘的干法刻蚀工艺及选择性湿法腐蚀技术,制备出侧壁陡峭且光滑的高Q值Si衬底GaN基回音壁模式微盘谐振腔,该微盘谐振腔的制备工艺简单、表面损伤小。在室温、266nm短波长激光泵浦条件下,微盘谐振腔激光器实现了激射,阈值为2.85MW/cm2,Q值达到2 161。
期刊名称:半导体光电
期刊级别:北大期刊
期刊人气:6004